掩模測(cè)量
MASK METROLOGY
天準(zhǔn)為掩模生產(chǎn)過(guò)程中的測(cè)量提供高精度、高重復(fù)性系統(tǒng)，適用產(chǎn)品包括但不限于COG和PSM。
針對(duì)掩模來(lái)料測(cè)量，天準(zhǔn)提供長(zhǎng)距離工作物鏡。測(cè)量包括掩模版上CD的分布，同時(shí)系統(tǒng)提供可見(jiàn)光和紫外光照明，均可用于反射和透射模式。紫外光照明可用于測(cè)量最小300nm的特征尺寸，3sigma重復(fù)性通常在納米范圍內(nèi)。
主要特點(diǎn)
Mask CD測(cè)量
最大支持14寸掩模以及定制形狀
可配置可見(jiàn)光、紫外光，支持穿透和反射光
SECS/GEM
長(zhǎng)期維護(hù)成本低，穩(wěn)定可靠
主要特點(diǎn)
Mask CD測(cè)量
最大支持6寸掩模
可配置可見(jiàn)光、紫外光，支持穿透和反射光
SECS/GEM
長(zhǎng)期維護(hù)成本低，穩(wěn)定可靠
主要特點(diǎn)
Mask膜厚，CD測(cè)量
可配置可見(jiàn)光、紫外光、紅外光
SECS/GEM
長(zhǎng)期維護(hù)成本低，穩(wěn)定可靠
